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氧化/扩散炉系列

发布时间:2018-09-11 访问次数:2558次 分享:

产品名称: 氧化/扩散炉系列   

应用领域:半导体
关 键 字:扩散炉,氧化扩散炉
产品咨询电话:4008-110044
产品详细描述:
产品应用:应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域,适用2~8英寸工艺尺寸 
 扩散炉产品特点: 
◆工业计算机控制系统,对炉温、进退舟、气体流量、阀门等动作进行自动控制 
◆采用悬臂送片器:操作方便、无摩擦污染等 
◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 
◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染(管路均采用EP级电抛光管路),流量控制采用进口质量流量计(MFC)
◆控温精度高,温区控温稳定性好;
 扩散炉主要技术指标 
◆工作温度:200~1300℃
◆加热体控制点:3/5点
◆炉体恒温区:450mm/600mm/800mm/1100mm 
◆恒温区精度:>800℃/±0.5℃ ,<800℃/±1℃ 
◆单点温度稳定性:600~1300℃/ ±0.5℃/24h 
◆最大可控升温速度:15℃/min 
◆最大降温速度:5℃/min(900~1300℃)
◆供电:三相四线,380VAC/50HZ 
◆局部净化等级:100级。
◆氧化系统:干氧、湿氧(氢氧内外点火)
欢迎索取相应详尽的技术资料及共研相应项目的解决方案。

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