氧化/扩散炉系列
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产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸
 扩散炉产品特点： ◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、阀门等动作进行自动控制 ◆采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染等 ◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性 ◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EP级电抛光管路），流量控制采用进口质量流量计（MFC） ◆控温精度高，温区控温稳定性好； 扩散炉主要技术指标 ◆工作温度：200～1300℃ ◆加热体控制点：3/5点 ◆炉体恒温区：450mm/600mm/800mm/1100mm ◆恒温区精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃ ◆单点温度稳定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h ◆最大可控升温速度：15℃/min ◆最大降温速度：5℃/min（900～1300℃） ◆供电：三相四线，380VAC/50HZ ◆局部净化等级：100级。 ◆氧化系统：干氧、湿氧（氢氧内外点火） 欢迎索取相应详尽的技术资料及共研相应项目的解决方案。 |
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应用领域：半导体
