氧化/扩散炉系列
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产品应用:应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域,适用2~8英寸工艺尺寸
![]() ◆工业计算机控制系统,对炉温、进退舟、气体流量、阀门等动作进行自动控制 ◆采用悬臂送片器:操作方便、无摩擦污染等 ◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 ◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染(管路均采用EP级电抛光管路),流量控制采用进口质量流量计(MFC) ◆控温精度高,温区控温稳定性好; ![]() ◆工作温度:200~1300℃ ◆加热体控制点:3/5点 ◆炉体恒温区:450mm/600mm/800mm/1100mm ◆恒温区精度:>800℃/±0.5℃ ,<800℃/±1℃ ◆单点温度稳定性:600~1300℃/ ±0.5℃/24h ◆最大可控升温速度:15℃/min ◆最大降温速度:5℃/min(900~1300℃) ◆供电:三相四线,380VAC/50HZ ◆局部净化等级:100级。 ◆氧化系统:干氧、湿氧(氢氧内外点火) 欢迎索取相应详尽的技术资料及共研相应项目的解决方案。 |

